Controlled vaporization system and method for surface priming in semiconductor manufacturing
WO2011146432
Art A2
24. November 2011
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011146432
- Aktenzeichen
- EP11784062
- Anmeldetag
- 17. Mai 2011
- Veröffentlichung
- 24. November 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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