Sintered oxide material, target comprising same, and oxide semiconductor thin film

WO2011148614 Art A1 1. Dezember 2011

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011148614
Aktenzeichen: EP11786317
Anmeldetag: 24. Mai 2011
Veröffentlichung: 1. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/00C23C14/34H01L21/20H01L21/203H01L21/336H01L21/363H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

2.158 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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