Image processing device, charged particle beam device, charged particle beam device adjustment sample, and manufacturing method thereof

WO2011148975 Art A1 1. Dezember 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011148975
Aktenzeichen: EP11786674
Anmeldetag: 25. Mai 2011
Veröffentlichung: 1. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22G01B15/00G01B15/06H01J37/147H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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