Substrate supports for semiconductor applications
WO2011150311
Art A1
1. Dezember 2011
Anmelder: Praxair Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011150311
- Aktenzeichen
- EP11724111
- Anmeldetag
- 27. Mai 2011
- Veröffentlichung
- 1. Dezember 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/683H02N13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Praxair Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Praxair Technology
US-amerikanisches Unternehmen im Bereich Industriegase, das Verfahren und Technologien zur Gasproduktion entwickelt, heute Teil des Linde-Konzerns.
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