Pattern measurement device, pattern measurement method, and program

WO2011152106 Art A1 8. Dezember 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011152106
Aktenzeichen: EP11789516
Anmeldetag: 28. März 2011
Veröffentlichung: 8. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/24G01N23/225G06T1/00H01J37/22H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

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