Charged particle beam device provided with automatic aberration correction method

WO2011152303 Art A1 8. Dezember 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011152303
Aktenzeichen: EP11789706
Anmeldetag: 27. Mai 2011
Veröffentlichung: 8. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01J37/153H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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