Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the composition, method for formation of septum for image display device, process for production of image display device, and image display device

WO2011155412 Art A1 15. Dezember 2011

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011155412
Aktenzeichen: EP11792369
Anmeldetag: 3. Juni 2011
Veröffentlichung: 15. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/032G03F7/004G03F7/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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