Method for active phase correction using negative index metamaterials, exposure imaging device and system using same, and method for improving the resolution of the exposure imaging device using the negative index metamaterials

WO2011155683 Art A1 15. Dezember 2011

Anmelder: Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011155683
Aktenzeichen
EP11792594
Anmeldetag
24. Januar 2011
Veröffentlichung
15. Dezember 2011
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University

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