Ozone plenum as uv shutter or tunable uv filter for cleaning semiconductor substrates

WO2011155985 Art A2 15. Dezember 2011

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011155985
Aktenzeichen
EP11792774
Anmeldetag
8. Juni 2011
Veröffentlichung
15. Dezember 2011
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/02H01L21/3065H01L21/205
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM Research Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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