Vorrichtung und Verfahren für Lokal Aufgelöste Messung einer Strahlungsverteilung durch eine Lithografiemaske

WO2011157407 Art A1 22. Dezember 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011157407
Aktenzeichen: EP11731254
Anmeldetag: 15. Juni 2011
Veröffentlichung: 22. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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