Pattern formation method, and radiation-sensitive resin composition

WO2011158687 Art A1 22. Dezember 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011158687
Aktenzeichen: EP11795595
Anmeldetag: 6. Juni 2011
Veröffentlichung: 22. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/038G03F7/039G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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