Process for production of semiconductor device, and semiconductor device

WO2011158698 Art A1 22. Dezember 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011158698
Aktenzeichen: EP11795606
Anmeldetag: 7. Juni 2011
Veröffentlichung: 22. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205C25D5/02C25D7/12H01L21/288H01L21/66H01L23/52H01L25/065H01L25/07H01L25/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von