Method and apparatus for analyzing and / or repairing of an euv mask defect

WO2011161243 Art A1 29. Dezember 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMS GmbH, Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011161243
Aktenzeichen: EP11738987
Anmeldetag: 24. Juni 2011
Veröffentlichung: 29. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMS GmbH
Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von