Substrate placing apparatus provided with alignment function, and film-forming apparatus having the substrate placing apparatus
WO2011161760
Art A1
29. Dezember 2011
Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011161760
- Aktenzeichen
- EP10853620
- Anmeldetag
- 22. Juni 2010
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B65G49/06H01L21/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ULVAC, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
ULVAC
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.
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