Thin film silicon solar cell and process for production thereof

WO2011162247 Art A1 29. Dezember 2011

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc., Japan Science and Technology Agency, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011162247
Aktenzeichen: EP11798131
Anmeldetag: 21. Juni 2011
Veröffentlichung: 29. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/075H01L31/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc.
Japan Science and Technology Agency
JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Japan Science and Technology Agency

Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.

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🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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