Thin film silicon solar cell and process for production thereof

WO2011162247 Art A1 29. Dezember 2011

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc., Japan Science and Technology Agency, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011162247
Aktenzeichen: EP11798131
Anmeldetag: 21. Juni 2011
Veröffentlichung: 29. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/075H01L31/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kabushiki Kaisha Toshiba, Inc.
Japan Science and Technology Agency
JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.645 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Japan Science and Technology Agency

Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.

2.174 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von