Gas for plasma reactions and uses thereof
WO2011162278
Art A1
29. Dezember 2011
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011162278
- Aktenzeichen
- EP11798160
- Anmeldetag
- 22. Juni 2011
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3065C07C21/20C09K13/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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