Method for determining number of layers of two-dimensional thin film atomic structure and device for determining number of layers of two-dimensional thin film atomic structure

WO2011162411 Art A1 29. Dezember 2011

Anmelder: NEC Corporation, National Institute for Materials Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011162411
Aktenzeichen: EP11798290
Anmeldetag: 22. Juni 2011
Veröffentlichung: 29. Dezember 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/225C01B31/02G01N23/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Corporation
National Institute for Materials Science
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

19.509 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

828 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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