Semiconductor inspecting apparatus

WO2012001867 Art A1 5. Januar 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012001867
Aktenzeichen: EP11800344
Anmeldetag: 18. Mai 2011
Veröffentlichung: 5. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01B11/00G01B15/00G01N21/956G01N23/225G06T1/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von