Electron beam irradiation method and scanning electronic microscope

WO2012001883 Art A1 5. Januar 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012001883
Aktenzeichen: EP11800359
Anmeldetag: 8. Juni 2011
Veröffentlichung: 5. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01J37/244H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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