Chemical liquid for forming protective film for wafer pattern, method for preparing chemical liquid, and method for treating wafer
Anmelder: Central Glass Company, Limited, Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012002346
- Aktenzeichen
- EP11800810
- Anmeldetag
- 28. Juni 2011
- Veröffentlichung
- 5. Januar 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Central Glass Company, Limited
Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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Dainippon Screen Mfg war ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Halbleiter und Druckvorstufe, ein Vorläufer des heutigen SCREEN-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Nachrichten- und Halbleitertechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2014 ab.
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