Composition for photocurable imprint, and method for formation of pattern using the composition

WO2012002413 Art A1 5. Januar 2012

Anmelder: Tokuyama Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012002413
Aktenzeichen: EP11800875
Anmeldetag: 29. Juni 2011
Veröffentlichung: 5. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B29C59/02G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokuyama Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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