Method for polishing silicon wafer

WO2012002525 Art A1 5. Januar 2012

Anmelder: Sumco Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012002525
Aktenzeichen: EP11800987
Anmeldetag: 1. Juli 2011
Veröffentlichung: 5. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Sumco Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumco

Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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