Components for euv lithographic apparatus, euv lithographic apparatus including such components and method for manufacturing such components

WO2012004070 Art A1 12. Januar 2012

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012004070
Aktenzeichen: EP11725673
Anmeldetag: 6. Juni 2011
Veröffentlichung: 12. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G21K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik

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