Method for polishing silicon wafer, and polishing solution for use in the method
WO2012005289
Art A1
12. Januar 2012
Anmelder: Sumco Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012005289
- Aktenzeichen
- EP11803623
- Anmeldetag
- 6. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 12. Januar 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00B24B37/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumco Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumco
Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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