Compound containing an aromatic ring for a resist underlayer, resist underlayer composition including same, and method for forming a pattern of a device using same

WO2012005418 Art A1 12. Januar 2012

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012005418
Aktenzeichen: EP10854489
Anmeldetag: 10. Dezember 2010
Veröffentlichung: 12. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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