Method of manufacturing silicon substrate, and silicon substrate
WO2012008087
Art A1
19. Januar 2012
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012008087
- Aktenzeichen
- EP11806424
- Anmeldetag
- 7. Juni 2011
- Veröffentlichung
- 19. Januar 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/324
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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