Method for manufacturing crystalline semiconductor film and apparatus for manufacturing crystalline semiconductor film

WO2012008103 Art A1 19. Januar 2012

Anmelder: Panasonic Corporation, Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012008103
Aktenzeichen: EP11806440
Anmeldetag: 27. Juni 2011
Veröffentlichung: 19. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Panasonic Corporation
Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Panasonic

Japanischer Konzern, der Haushaltsgeräte, Unterhaltungselektronik, Batterien sowie Komponenten und Lösungen für Industrie und Automobilbau entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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