Reactor cleaning apparatus and reactor cleaning method

WO2012008112 Art A1 19. Januar 2012

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012008112
Aktenzeichen: EP11806449
Anmeldetag: 4. Juli 2011
Veröffentlichung: 19. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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