Method for forming conductive film pattern

WO2012008204 Art A1 19. Januar 2012

Anmelder: Seiko Instruments Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012008204
Aktenzeichen
EP11806536
Anmeldetag
27. April 2011
Veröffentlichung
19. Januar 2012
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20H01B13/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Seiko Instruments Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Seiko Instruments

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiba, tätig in den Bereichen Präzisionsinstrumente, Uhren und elektronische Bauteile.

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