Refractory metal powder for thermal spraying, and refractory metal thermally-sprayed film and thermally-sprayed components using same

WO2012008413 Art A1 19. Januar 2012

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012008413
Aktenzeichen: EP11806743
Anmeldetag: 11. Juli 2011
Veröffentlichung: 19. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C4/08B05D1/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kabushiki Kaisha Toshiba
Toshiba Materials Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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