Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the same

WO2012008510 Art A1 19. Januar 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012008510
Aktenzeichen: EP11806840
Anmeldetag: 7. Juli 2011
Veröffentlichung: 19. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F12/04C08F22/12C08F22/36G03F7/004G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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