Polysiloxane composition and method of pattern formation

WO2012008538 Art A1 19. Januar 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012008538
Aktenzeichen: EP11806868
Anmeldetag: 14. Juli 2011
Veröffentlichung: 19. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C08L83/04C08G77/04C08K5/34G03F7/004G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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