Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, liquid recovering method, device fabricating method, program, and storage medium
WO2012008620
Art A2
19. Januar 2012
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012008620
- Aktenzeichen
- EP11743156
- Anmeldetag
- 14. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 19. Januar 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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