Droplet transfer device, droplet transfer method, plasma separation device and plasma separation method

WO2012011234 Art A1 26. Januar 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012011234
Aktenzeichen: EP11809412
Anmeldetag: 6. Juli 2011
Veröffentlichung: 26. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01N35/08G01N37/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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