Polycrystalline silicon ingot manufacturing apparatus, polycrystalline silicon ingot manufacturing method, and polycrystalline silicon ingot

WO2012011523 Art A1 26. Januar 2012

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation, Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012011523
Aktenzeichen: EP11809693
Anmeldetag: 21. Juli 2011
Veröffentlichung: 26. Januar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/02C30B28/06C30B29/06H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Mitsubishi Materials Corporation
Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von