Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews
WO2012012200
Art A1
26. Januar 2012
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012012200
- Aktenzeichen
- EP11810148
- Anmeldetag
- 6. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/24H05H1/34H05H1/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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