Lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2012013451 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: ASML Netherlands B.V., TU Eindhoven, Sorama B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012013451
Aktenzeichen: EP11729119
Anmeldetag: 4. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01H3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
TU Eindhoven
Sorama B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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