Euv exposure apparatus

WO2012013748 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012013748
Aktenzeichen: EP11740884
Anmeldetag: 28. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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