Euv exposure apparatus

WO2012013748 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012013748
Aktenzeichen: EP11740884
Anmeldetag: 28. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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