Pattern dimension measurement method using electron microscope, pattern dimension measurement system, and method for monitoring changes in electron microscope equipment over time

WO2012014356 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014356
Aktenzeichen: EP11811963
Anmeldetag: 20. Mai 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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