Reflective mask blank, manufacturing method thereof, and reflective mask

WO2012014495 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014495
Aktenzeichen: EP11812092
Anmeldetag: 29. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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