Photomask correcting method and laser processing device

WO2012014520 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Omron Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014520
Aktenzeichen: EP11812116
Anmeldetag: 16. März 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Omron Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Omron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Omron entwickelt Automatisierungstechnik, Steuerungen, Sensoren und Robotik für die Industrie sowie elektronische Bauteile und medizintechnische Geräte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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