Plasma cleaning method for parallel plate electrodes

WO2012014565 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014565
Aktenzeichen: EP11812158
Anmeldetag: 2. Juni 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Central Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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