Gate stack formation method

WO2012014642 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014642
Aktenzeichen: EP11812234
Anmeldetag: 6. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L21/316H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von