Sintered material for zno-mgo-based sputtering target

WO2012014688 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014688
Aktenzeichen: EP11812280
Anmeldetag: 14. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/453C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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