Pattern formation method and polymer alloy base material

WO2012014700 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014700
Aktenzeichen: EP11812292
Anmeldetag: 15. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B82B3/00G03F7/26G03F7/40G03F7/42H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kabushiki Kaisha Toshiba
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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