Manufacturing device for nanoimprint mold and manufacturing method for nanoimprint mold

WO2012014774 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014774
Aktenzeichen: EP11812365
Anmeldetag: 21. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/00B29C33/38B29C59/02C25D11/10C25D17/02G02B1/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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