Oxide for semiconductor layer and sputtering target of thin film transistor, and thin film transistor

WO2012014999 Art A1 2. Februar 2012

Anmelder: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho, Samsung Display Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012014999
Aktenzeichen: EP11812588
Anmeldetag: 28. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho
Samsung Display Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇰🇷 Samsung Display

Südkoreanisches Tochterunternehmen der Samsung-Gruppe, das Displaypanels wie OLED- und LCD-Bildschirme für Smartphones, Fernseher und weitere Elektronikgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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