Fabricating method of nano structure for antireflection and fabricating method of photo device integrated with antireflection nano structure

WO2012018163 Art A1 9. Februar 2012

Anmelder: Gwangju Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012018163
Aktenzeichen: EP10855676
Anmeldetag: 30. November 2010
Veröffentlichung: 9. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L33/02H01L33/20B82B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Gwangju Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Gwangju Institute of Science and Technology

Das Gwangju Institute of Science and Technology ist eine staatliche technische Hochschule in Südkorea mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt durch Mess- und Prüftechnik sowie organische Chemie. Anmeldungen reichen von 2004 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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