Radio frequency (rf) power filters and plasma processing systems including rf power filters

WO2012018670 Art A2 9. Februar 2012

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012018670
Aktenzeichen: EP11815102
Anmeldetag: 28. Juli 2011
Veröffentlichung: 9. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01P1/20H01P1/203

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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