Radiation sensitive composition and novel compound

WO2012020627 Art A1 16. Februar 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012020627
Aktenzeichen: EP11816293
Anmeldetag: 20. Juli 2011
Veröffentlichung: 16. Februar 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/17C07C381/12C08F12/04C08F20/10C08F20/56G03F7/004G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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